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| ■イオンビームスパッタ成膜装置 |
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この製膜法は蒸着物質ターゲットに入射角６０〜８０度のスパッタ率の良い角度でイオンエネルギー１KeV〜１０KeVのアルゴンイオンを照射すると１個のAr原子により数１０個の蒸着物質がスパッターされ真空中に放出されます。この際のイオンエネルギーは数十ｅＶにも及びますのでKセルによる真空蒸着法よりも高い（０．２ｅＶの数百倍）エネルギーにより強固な蒸着膜が生成されます。弊社のスパッターイオン銃は最大加速電圧１０KeVでビーム径がφ１ｍｍ以下に収束され電流密度も数ｍA／ｃｍ２確保できますので型式：OMI-0510CKSと回転型スパッターターゲット加熱ホルダー”OMH-0075"を採用しチャンバーをあつらえれば、１ｃｍ２程度のサンプルに高純度の薄膜を製膜する事ができます。この際回転ターゲットは製膜の均一性を確保するため回転振動機構も備えております。イオン銃にもスキャンエリア±３ｍｍ程度のスイープができますので均一な薄膜が可能です。また、蒸着物質は３種搭載可能ですので同時に三層の製膜が出来ます。
加熱ホルダーの最大加熱温度は９００度ですがオプションにて１０００度も用意できます。サンプルの面にターゲット面を平行にセットし斜め上方３０〜４５度よりレーザーを入射すればレーザーアブソープレーションも組み込めます。（オプション）お客様のご要望により特注製作可能ですのでご相談ください。なお弊社ではシステムの制御はLabviewにより制御しますのできめの細かい高精度のコントロールが可能です。 |
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 スパッターイオン銃のアプリケーション例 |
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回転式スパッターターゲット OMH-0075 10keV高出力高精度イオンガン OMI-0510CKES |
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| ■ニュートラルビームモノレイヤー成膜装置 (低速中性分子照射製膜) |
本製膜法は、近年シリコンの集積密度が巨大になりシリコンの酸化膜の厚さが０．１ｎｍと原子レベルの厚さに近づいて来てるので、出来るだけシリコンの表面の分子配列を破壊することなく製膜する技術が色々と開発されて来ております。そのひとつとしてクラスターイオンにし原子、分子１個あたりのエネルギーを数ｅＶ程度におさえて表面のダメージを殆ど無視出来るべく、より高品質かつ、より精密な酸化膜を製膜する技術が開発されようとしております。ただしこの装置は大掛かりになりまますので、弊社のニュートラルビーム銃を使用すればそれに近い実験が可能ではないかと考えます。
本システムは弊社の”減速型低速中性ビーム銃：OMB-0310NB"によりクラスター式により近いものを考えます。１０００ｅＶに加速された酸素イオン分子をターゲット直前の等電界型減速レンズシステムに収束されたイオンビームを無理なく減速し再度、収束させます。この低速イオン（１０〜３０ｅＶ）の酸素イオンをビームに垂直なラジアル方向によりのニュートラライザー電子により効率よく中和させ温度コントロールされたサンプル面に照射します。分子のエネルギーは１０ｅＶ付近ですのでかなりクラスター式（６ｅＶ）に近いので表面を破壊することなく”ソフトランディング”しワンモノレイヤレベルにて酸素分子が整列するはずです。この際の基盤温度は９００Kないし１０００Kと言う文献もありますが、物質により研究する余地はありますので挑戦してみてください。表面クリーニングには弊社の”低速イオン銃：OMI-0035EBL”をセットしダメージの少ない表面クリーニングを施してから蒸着すればより良い製膜が可能になると考えます。また、加熱ホルダーはお手持ちの物でもよろしいですが弊社でも特注可能です。 |
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減速型低速中性ビーム銃 OMB-0410NB |
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| ■イオンプレーティング成膜装置 |
| イオンプレーテング法はKセル、EBガンなどにより蒸着物質を蒸着させサンプル面に到着する前に８０〜１００ｅＶ程度の低速大電流電子ビームにより物質をイオン化させサンプル面に薄膜の蒸着力を強化させるものです。本装置はサンプルのクリーニング用に”低速イオン銃、OMI-0035EBL"を搭載し低速にてサンプル面にダメージを最小限に抑えた表面処理を施し物質の蒸着力を十分発揮できるようにします。Kセルは”超高真空用３連ミニKセル”を搭載しておりますので高純度にてかつ、３元の同時蒸着が可能です。イオン化用の電子銃”低速高出力電子銃 MOE-0202PE"は１００ｅＶにて１００μA近い電流が取れますのでビームのイオン化には最適で各社で使用されております。また、サンプル加熱ホルダーは種々用意いたしております。Kセルの容量は１ｃｃ程度ですので小規模、高真空用の実験装置に最適です。弊社のKセルはタングステンヒータの保持に直接碍子類を使用しておりませんので小型ながら最高加熱温度１５００度程度は可能ですので色々な用途に使用できます。チャンバーはお客様のご要望により特注いたします。また、ICF203の６方クロス等の丁度良いものがあればそのサイズに組み込み可能なこともありますので、急いでシステムをくみ上げるときはリーズナブルで最適な製品です。また、弊社の実績あるカタログ品を多用しますので納期最短にて可能です。 |
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3連超小型高温Kセル OMK-0030T 低速高出力電子銃 OME-0202PE |
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