RFイオン銃/ OMI-0850series
東京大学三村秀和准教授により、基盤の表面粗さを保ったまま成膜可能な事が証明されました。
用途
●IBF（イオンビームフィギュアリング）
●イオンビームスパッタ
概要
nmオーダーの超精密加工を可能とする、RF励起方式のイオン銃を新開発しリリースしました。 大電流のイオンビームを長時間安定的に照射可能ですので、精密素子等の加工時間を短縮します。独自のニュートラライザーをオプションで搭載可能とし、絶縁物の加工も可能です。 IBF(Ion Beam Figuring)はもちろん、細く収束制御されたビームはIBSイオンビームスパッタ成膜にも対応可能です
仕様
| ビームエネルギー | 100eV～1500eV |
|---|---|
| ビーム電流 | ～15mA(1200eV) |
| ビーム径 | φ24ｍｍ(FWHM) |
| 最大電流密度 | ２．５ｍA/ｃｍ2 |
コントローラ
○加速電源 (仕様による)
○RF電源 13.56MHz ○整合器 手動/自動
オプション
○ニュートラライザー
○ピームプロファイルモニター
○ファラデーカップ
別途必要なもの
○真空排気系
○ガス導入系
○水冷設備
関連ファイル1
