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イオンビームフィギュアリング加工機

イオンビームフィギュアリングで0.1nmRMSの平滑度を!

用途

・X線ミラー、光学レンズ微小領域形状修正

・イオンビームフィギュアリング

概要

EUV露光装置のミラーの精度は0.1nmRMSの平滑度が求められ、イオンビームフィギュアリングにより実現しています。大阪大学のX線ミラー加工にも弊社のイオンガンがつかわれており、超高精度の光学部品を作るには必須のものとなりつつあります。大手企業で使われているこの最新技術を是非多くの方にも使って頂きたいと存じます。

イオンビーム径を刃物サイズに例えればφ0.5からφ20mm程度のイオンガンを使い、加工対象の材質、サイズからXYテーブル、真空チャンバーを設計します。ワークが誘電体ならニュートラライザーを追加します。ビームプロファイルモニターで加工前に計測することで、出来上がりを事前に予想できます。

仕様

○到達形状精度    :0.13nmRMS以下(Siウェハーの表面粗さを変えずに加工可能)

○ワークサイズ    :30mm×30mm以下 (特注可能)

○イオン銃部

イオン化方式    :RF式、又はコールドカソード型

ビームエネルギー  : 500eV~5keV  (特注可能)

ビーム径(半値幅) :φ0.2mm〜φ3mm(特注可能)

出力可能イオン種  :Ar、He、その他

機器構成

○イオンガン 5kV

○電子銃   1kV

○自動XYステージ 30mmストローク

○真空チャンバー

○真空ポンプ

○真空計

○ガス導入MFC

○制御PC

○ビームプロファイルモニター

○加工プログラム

 

↓弊社イオンガンを使った加工例

大阪大学 松山智至様ご提供

Development of ion beam figuring system with electrostatic deflection for ultraprecise X-ray reflective optics

Review of Scientific Instruments 86, 093103 (2015); doi: 10.1063/1.4929323

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